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塑件造型設(shè)計在不影響外觀和使用的前提下，塑件造型設(shè)計時應(yīng)盡量滿足如下要求:

(1)金屬光澤會使原有的縮癟變得更明顯，因此要避免制品的壁厚不均勻狀況，以免出現(xiàn)縮癟，而且壁厚要適中，以免壁太薄(小于 1.5mm)，否則會造成剛性差，在電鍍時易變形，鍍層結(jié)合力差，使用過程中也易發(fā)生變形而使鍍層脫落。

(2)避免盲孔，否則殘留在盲孔內(nèi)的處理液不易清洗干凈，會造成下道工序污染，從而影響電鍍質(zhì)量。

(3)電鍍工藝有銳邊變厚的現(xiàn)象。電鍍中的銳邊會引起放電，合肥鍍錫，造成邊角鍍層隆起。因此應(yīng)盡量采用圓角過渡，金屬鍍錫，圓角半徑至少0.3mm以上。

平板形塑件難電鍍，鍍件的中心部分鍍層薄，越靠邊緣鍍層越厚，整個鍍層呈不均勻狀態(tài)，應(yīng)將平面形改為略帶圓弧面或用桔皮紋制成亞光面。

電鍍的表面積越大，中心部位與邊緣的光澤差別也越大，略帶拋物面能改善鍍面光澤的均勻性。

(4)塑件上盡量減少凹槽和突出部位。因為在電鍍時深凹部位易露塑，而突出部位易鍍焦。凹槽深度不宜超過槽寬的1/3，底部應(yīng)呈圓弧。有格柵時，孔寬應(yīng)等于梁寬，并小于厚度的1/2。

(5)鍍件上應(yīng)設(shè)計有足夠的裝掛位置，與掛具的接觸面應(yīng)比金屬件大2~3倍。

(6)塑件的設(shè)計要使制件在沉陷時易于脫模，否則強行脫模時會拉傷或鍍件表面，或造成塑件內(nèi)應(yīng)力而影響鍍層結(jié)合力。

(7)當(dāng)需要滾花時，滾花方向應(yīng)與脫模方向一致且成直線式.滾花條紋與條紋的距離應(yīng)盡量大一些。

(8)塑件盡量不要用金屬鑲嵌件，否則在鍍前處理時嵌件易被腐蝕。

(9)塑件表面應(yīng)保證有一定的表面粗糙度。

在清洗工藝中要求清洗（脫脂）溶液應(yīng)盡可能減少表面或界面張力，對金屬離子具有更強的絡(luò)合能力，對金屬皂類具有較好的分散能力，鍍錫廠家，對動植物油脂有較強的皂化能力，以及具有較高的載污垢能力和良好的漂洗能力同時還要有極高的環(huán)保性能。

二合一去油除銹凈化液技術(shù)避免了傳統(tǒng)的強酸堿除油銹的方法，將去油和除銹同步進(jìn)行，只需“綜合處理—水洗”兩道工序，鍍錫價格，可反復(fù)添加、循環(huán)使用?？蓮V泛應(yīng)用于金屬及部分非金屬在涂裝、電鍍、化學(xué)鍍、防銹封存、表面膜轉(zhuǎn)化等工藝的前處理中。所以，選擇電鍍加工前處理工藝，采用二合一去油除銹凈化液技術(shù)才是硬道理！

真空蒸鍍的關(guān)鍵參數(shù)

飽和蒸氣壓(PV): 在一定的溫度下，真空室中蒸發(fā)材料的蒸氣在與固體或液體平衡過程中所表現(xiàn)的壓力.飽和蒸氣壓與溫度的關(guān)系曲線對于薄膜制作技術(shù)有重要意義，它可以幫助我們合理選擇蒸發(fā)材料和確定蒸發(fā)條件。

真空度：P ≤ 10-3 Pa（保證蒸發(fā)，粒子具分子流特征，以直線運動）

基片距離 (相對于蒸發(fā)源)：10~50 cm（兼顧沉積均勻性和氣相粒子平均自由程）蒸發(fā)出的原子是自由、無碰撞的， 沉積速度快。容易根據(jù)蒸發(fā)原料的質(zhì)量、蒸發(fā)時間、襯底與蒸發(fā)源的距離、襯底的傾角、材料的密度等計算薄膜的厚度。