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真空電鍍技術的缺點:難以獲得晶體結構的薄膜；沉積的薄膜與基底之間的附著力差；工藝重復性不夠好。

一般來說，真空電鍍廣泛應用于民用工業(yè)的裝飾膜和包裝膜。例如:汽車、燈具、玩具、車輛、家電、工藝品、日用商品、手機架、化妝品等包裝產(chǎn)品。

真空電鍍是將鍍膜材料放在真空電鍍室中，通過蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)。當蒸發(fā)分子的平均自由程大于蒸發(fā)源與襯底之間的尺寸時，蒸發(fā)粒子從蒸發(fā)源表面溢出，PVD電鍍加工，在飛向襯底表面的過程中很少遇到其他例子(主要是殘留氣體分子)的碰撞障礙物，PVD電鍍價格，直接到達襯底表面凝結成薄膜。

不難看出，真空電鍍工藝由蒸發(fā)源表面薄膜材料的蒸發(fā)、蒸發(fā)顆粒(主要是原子)在氣相中的遷移、薄膜通過吸附在襯底表面的凝結三個過程組成。通過這一過程創(chuàng)造良好的成膜條件是非常必要的。

隨著真空電鍍的工藝發(fā)展不斷的創(chuàng)新，PVD電鍍哪里有，硬質(zhì)薄膜的設計也向著多元化、多膜化的方向發(fā)展，至今已經(jīng)是現(xiàn)代企業(yè)的鍍膜工藝。其實真空電鍍的正常操作方法應該參考操作手冊的指示操作。

1、檢查真空鍍膜設備各操作控制開關是否在'關'位置。

2、 打開總電源開關，真空鍍膜設備送電。

3、低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。

4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。

5、落下鐘罩。

6、啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵。

7、開復合真空計電源（復合真空計型號：Fzh-1A)。

8、多弧離子鍍膜機當?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。

9、真空鍍膜設備開通冷卻水，啟動擴散泵，珠海PVD電鍍，加熱40min。

真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支。已廣泛應用于光學、電氣工程、能源開發(fā)、理化儀器、工程機械、包裝、民用產(chǎn)品、表面科學和科學研究等領域。用于真空鍍膜的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束沉積鍍和分子束外延，還有化學氣相沉積。如果真空鍍膜的目的是改變材料表面的物理和化學性能，技術權利是真空表面處理技術的重要組成部分。

真空鍍膜在電子產(chǎn)品中占有重要地位。各種尺寸的繼承電路。包括存儲器、運算單元、指令邏輯元件等，必須使用導電膜、絕緣膜、保護膜。鉻膜用作制備電路的掩模。

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